金剛石研磨拋光片
適用于:
· 集成電路交叉切片
· TEM /FIB前的樣品打薄處理
· 非密封試樣拋光
· 光纖研磨(4英寸和5英寸都可以)
微米(um) |
8”(不帶背膠) |
8”(帶背膠) |
12”(不帶背膠) |
35 |
50-30038 |
50-30118 |
50-31238 |
30 |
50-30040 |
50-30120 |
50-31240 |
15 |
50-30045 |
50-30125 |
50-31245 |
9 |
50-30050 |
50-30130 |
50-31250 |
6 |
50-30055 |
50-30135 |
50-31255 |
3 |
50-30060 |
50-30140 |
50-31260 |
1 |
50-30065 |
50-30145 |
50-31265 |
0.5 |
50-30070 |
50-30150 |
50-31270 |
0.25 |
50-30073 |
50-30153 |
|
0.1 |
50-30075 |
50-30155 |
50-31275 |
組合包 |
50-30076 |
50-30156 |
|
B型金剛石研磨片
B型金剛石研磨片的金剛石顆粒中含有樹(shù)脂聚合邁拉膜的陶瓷珠。隨著陶瓷珠的磨損,新的金剛石顆粒暴露出來(lái)以允許連續(xù)的、強(qiáng)力的材料研磨。與標(biāo)準(zhǔn)金剛石研磨片相比,B型膜片提供了一級(jí)級(jí)的粗磨,通常是用于封裝的樣品。
微米(um) |
8”(不帶背膠) |
8”(帶背膠) |
12”(帶背膠) |
9 |
50-30050B |
50-30130B |
50-30170B |
6 |
50-30055B |
50-30135B |
50-30175B |
3 |
50-30060B |
50-30140B |
50-30180B |
1 |
50-30065B |
50-30145B |
50-30185B |
0.5 |
50-30070B |
|
|
氧化鋁、碳化硅和氧化硅研磨片
分為氧化鋁、碳化硅和硫化硅三種,分別是由聚酯薄膜涂以含有氧化鋁、碳化硅、氧化硅粒子的樹(shù)脂所組成的。推薦用于細(xì)磨和研磨那些邊緣保持很重要的樣品。
氧化鋁:用于鐵的材料、玻璃的研磨
碳化硅: 推薦用于有色金屬和聚合物研磨
氧化硅: 建議作為一種替代膠和布的材料進(jìn)行SEM和TEM樣品最后的拋光。
特點(diǎn):
* 微米級(jí)優(yōu)質(zhì)磨料在30到0.01微米等級(jí)下精密生產(chǎn)完成
* 高精度的保證均勻性和平面度
* 抗水、油和大多數(shù)溶劑
* 顏色編碼可快速分辨
* 用于封裝或非封裝的樣品
* 不推薦用于研磨頭的應(yīng)用
微米(um) |
氧化鋁 (不帶背膠,pk/50) |
碳化硅氧化鋁 (pk/50) |
氧化硅 |
30 |
50-20040 |
50-20075 |
|
15 |
50-20080 |
||
12 |
50-20045 |
||
9 |
50-20050 |
50-20085 |
|
5 |
50-20052 |
50-20090 |
|
3 |
50-20055 |
||
1 |
50-20060 |
50-20095 |
|
0.3 |
50-20065 |
||
0.05 |
50-20067 |
||
0.01 |
50-20097(pk/20) |
||
組合包 |
50-20070 |
50-20070 |